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美國托爾國際磁控濺射系統(tǒng)
折 扣 率: 0
最后更新:2015-01-28
關(guān) 注 度:2687
生產(chǎn)企業(yè):天津冠世緣科技發(fā)展有限公司
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產(chǎn)品詳細介紹配置方案:
    該配置方案是基于薄膜沉積的多槍濺射系統(tǒng)。腔室采用最佳的D字型設(shè)計,這種設(shè)計可以更方便的靠近濺射槍,方便更換靶材和基片樣品。更重要的是這種設(shè)計可以使腔體小型化,靈活方便,也可以使任何組件和樣品方便進出,達到最佳的尺寸和便利性的結(jié)合。300L/S的大抽速分子泵,可以在15分鐘
內(nèi)使真空度達到開始沉積模式,40分鐘內(nèi)真空度好于10-6 Torr,極限真空10-7Torr。
    比較重要的一點,磁靶之間要避免彼此間的交叉污染,因此每個磁靶配備獨立的擋板是不可或缺的,加上磁控槍位于頂部,樣品臺位于底部,實現(xiàn)了無污染的沉積過程。DC直流靶和RF射頻靶的結(jié)合,可以沉積幾乎所有的材料,比如Ti,Ta, Cr, W, Nb, Al, Au, Pt等金屬和WO,T aO,SiO2,Si3N4等介電材料。
主要配置與參數(shù):
1) 工藝腔室- 304L不銹鋼材質(zhì),前開門設(shè)計,便于更換靶材,更容易靠近樣品臺和厚膜儀、熱偶、進氣口等。配有不銹鋼篩網(wǎng)的4”直徑的觀察窗方便監(jiān)測工藝過程。腔室外壁接有分子泵,真空計,排氣
閥,進氣口等。樣品臺可以0-20 rpm 旋轉(zhuǎn),這大大提高了薄膜的均勻性。樣品臺最大加熱溫度600°C ,這可以提高成膜質(zhì)量。額外的空法蘭,用于升級連接其他組件。
2) 真空系統(tǒng)- 由機械泵和抽速300 l/s的分子泵組成。這樣的真空組合,可以實現(xiàn)基礎(chǔ)真空10-6Torr,排氣閥與真空泵間安全互鎖。
3) 樣品臺: 樣品臺尺寸4.5” 直徑,可以承載一個4”直徑的樣品或多個更小的樣品。樣品臺可加熱600°C并可以每分鐘旋轉(zhuǎn)20轉(zhuǎn),保證了成膜質(zhì)量和均勻性。樣品臺
配有擋板。
Sample holder for 4” diameter or any smaller/flat/irregular shape samples within 4” diameter range 
Spring clips for holding samples 
Substrate rotation (0-20 rpm) 
Motorized Substrate Shutter 
IR-Quartz Lamp Substrate heating up to 600°C. 
4) 磁控槍- 3個直徑 3” 磁控槍, 每個槍有獨立的擋板,可以沉積介電材料,導(dǎo)體材料和半導(dǎo)體材料等。為了得到最佳的沉積速率,樣品臺和靶之間的距離可調(diào)。
THREE, 3” Angstrom Sciences IC
Magnetron Gun, FLEX Style 
Three motorized shutters and shields for sources 
5) 電源功率- 2個 1200 W DC直流電源用于金屬沉積比如Ti, Ta, Cr, W, Nb, Al, Au, Pt等。一個 300 W 13.56 MHz RF射頻電源及控制和匹配網(wǎng)絡(luò)用于金屬氧化物像 ZnO, SiO2 和ITO等的沉積。射頻電源配有自動匹配網(wǎng)絡(luò),使反向功率最小化。
One, 300 Watt RF power supply 
RF auto-matching network and controller 
Two, 1200 Watt DC power supply 
6) 氣路-兩路氣路帶有質(zhì)量流量控制器、截止閥,用于Argon氬氣和 Oxygen氧氣或其他工藝氣體。
 Two mass flow controllers for Argon and other process gases (Non-Corrosive & Non-Hazardous) 
7) 真空計- 全量程真空計測量范圍760 ~ 10-9 Torr。能夠測量真空和濺射時氬氣
的壓力。
  Full range combination gauge, cold cathode and convection enhance Pirani gauge,
measuring from 760 to 10-9 Torr with Torr International readout. 
8) 膜厚儀 FTM 2000- 兩個水冷石英晶體膜厚儀,實時監(jiān)測沉積速率和膜厚。
  FTM-2000 for display and control 
  Two water cooled quartz crystal thickness sensor with cable oscillator 
9) 控制面板- 容易控制,安全互鎖,便于維護。所有工藝參數(shù)都可在前面板實時顯示。
 Interlocked  controls for safety 
  Displays and operating parameters
10)水電氣要求-
電力:所有的泵、控制器和電源功率需要 220V, single phase, 50 Hz。
水:需要9 l/min at 18-22°C and 3-4 atm冷卻水或者配備冷水機用于磁控槍、膜厚儀和分子泵的冷卻。
氣:5atm壓縮空氣,排氣建議使用1 atm干燥氮氣。
220V, 50Hz, 20Amp, single phase (subject to change based on final configuration) 
Process gases 1 atm, ¼” tube, Swagelok Fitting or Pisco Fitting 
Compressed Air, at 5-6atm 
Water at 18-22oC, 3-4 atm, 9 l/min, 3/8” tube Pisco Fitting 
Dry Nitrogen for venting, regulated at 1 atm, ¼” tube Pisco Fitting 
天津冠世緣科技發(fā)展有限公司
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