Pi COAT前清洗設備
1.設備概要
本設備通過清洗、噴淋、風刀等過程洗凈基板,并通過IR、UV去除水分,從而提高基板表面的浸潤性,冷卻基板溫度通過后續(xù)的TBL進入COAT設備。
上料機、TBL、下料機等設備,根據客戶的線體構成、印刷設備等具體情況而定。
2.設備規(guī)格
(1)處理對象:STN液晶用玻璃板
(2)處理目的:清洗、干燥
(3)對象尺寸:14″×16″,17″,T=0.4、0.55、0.7、1.1mm
(4)籃子規(guī)格:貴公司提供
(5)基板傳送方向:從左到右,或從右到左
(6)設備外形尺寸:約10450×1400×1650mm
(7)干燥重量:約5200Kg
(8)基板傳送高度:從地面至基板下面為900mm
(9)傳送方式:水平枚葉式傳送方式
(10)傳送滾輪間距:基本為80mm
(11)處理時間:標準17秒/塊標準傳送速度約2.1m/分鐘
(12)啟動準備時間:啟動后約60分鐘
3.所需電力
(1)主機:3P,380V,50Hz,約130kWA
(2)合計:約130kVA
(3)純水用量:約32L/min,0.15Mpa G,電阻值10MΩ/cm以上
(4)冷卻水用量:約12L/min,0.15MpaG無背壓,約17℃
(5)空氣用量:約4200NL/min,0.4~0.5Mpa G,潔凈干燥氣
P/R前清洗設備
1.設備概要
本設備通過清洗、噴淋、風刀洗凈基板,并通過IR、UV去除水分,從而提高基板表面的浸潤性,冷卻基板溫度通過后續(xù)的TBL入COAT設備。上料機、TBL、下料機等設備,根據貴公司的線體構成、印刷設備等具體情況而定。
2.設備規(guī)格
(1)處理對象:STN液晶用玻璃板
(2)處理目的:清洗、干燥
(3)玻璃尺寸: 14″×16″,17″,T=0.4、0.55、0.7、1.1mm
(4)籃子規(guī)格:貴公司提供
(5)基板傳送方向:從左到右,或從右到左
(6)設備外形尺寸:約11840×1400×1650mm
(7)干燥重量:約7500Kg
(8)基板傳送高度:從地面至基板下面為900mm
(9)傳送方式:水平枚葉式傳送方式
(10)傳送滾輪間距:基本為80mm
(11)處理時間:標準17秒/塊標準傳送速度 約2.1米/分鐘
(12)啟動準備時間:啟動后約60分鐘
3.外供電源
(1)主機:3相,380V,50Hz,約137kWA
(2)合計:約137kVA
(3)純水用量:約32L/min,0.15Mpa G,電阻值10MΩ/cm以上
(4)冷卻水用量:約12L/min,0.15Mpa G無背壓,約17℃
(5)空氣用量:約4200NL/min,0.4~0.5Mpa G,潔凈干燥氣
TOP-COAT前清洗設備
1.設備概要
本設備通過清洗、噴淋、風刀洗凈基板,并通過IR、UV去除水分,從而提高基板表面的浸潤性,冷卻基板溫度通過后續(xù)的TBL入COAT設備。上料機、TBL、下料機等設備,根據貴公司的線體構成、印刷設備等具體情況而定。
2.設備規(guī)格
(1)處理對象:STN、CSTN液晶用玻璃板
(2)處理目的:清洗、干燥
(3)玻璃尺寸: 14″×16″,17″,t=0.4、0.55、0.7、1.1mm
(4)籃子規(guī)格:貴公司提供(調試時最少需要2個)
(5)基板傳送方向:從左到右,或從右到左
(6)設備外形尺寸:約10450×1400×1650mm
(7)干燥重量:約5200Kg
(8)基板傳送高度:從地面至基板下面為900mm
(9)傳送方式:水平枚葉式傳送方式
(10)傳送滾輪間距:基本為80mm
(11)處理時間:標準18秒/塊標準傳送速度 約2.1米/分鐘
(12)啟動準備時間:啟動后約60分鐘
3.外供電源
(1)主機:3相,380V,50Hz,約130kWA
(2)合計:約130kVA
(3)純水用量:約32L/min,0.15Mpa G,電阻值10MΩ/cm以上
(4)冷卻水用量:約12L/min,0.15Mpa G無背壓,約17℃
(5)空氣用量:約4200NL/min,0.4~0.5Mpa G,潔凈干燥氣
(6)真空用量:約30L/min,-67kPa
蝕刻設備
1.設備概要
本設備對應ITO膜厚,利用四個區(qū)的蝕刻單元實施處理,根據膜厚不同,通過開關選擇,切換氣閥等管路系統。通過噴淋、傾斜和風刀去除液體,從而實現ITO膜的蝕刻過程。為對應彩色基板,可使用50℃(MAX55℃)液溫的蝕刻液(鹽酸、DIW、氯化鐵)。
2.設備規(guī)格
(1)處理對象:STN、CSTN液晶用玻璃板
(2)處理目的:ITO膜蝕刻,干燥
(3)玻璃尺寸: 14″×16″,17″,T=0.4、0.55、0.7、1.1mm
(4)籃子規(guī)格:貴公司提供
(5)基板傳送方向:從左到右,或從右到左
(6)設備外形尺寸:約11380×1400×1650mm
(7)干燥重量:約7000Kg
(8)基板傳送高度:從地面至基板下面為900mm
(9)傳送方式:水平枚葉式傳送方式
(10)傳送滾輪間距:基本為80mm
(11)處理時間:標準17秒/塊;標準傳送速度約2.1m/分
(12)啟動準備時間:啟動后約60分鐘
3.外供電源
(1)主機:3相,380V,50Hz,約58kWA
(2)純水用量:約32L/min,0.15Mpa G,電阻值10MΩ/cm以上
(3)冷卻水用量:約0L/min
(4)空氣用量:約2500NL/min,0.4~0.5Mpa G,潔凈干燥氣
脫膜設備
1.設備概要
本設備通過使用堿性脫膜液去除光刻膠,之后有噴淋、風刀等除液單元。脫膜液濃度、處理等具體規(guī)格需和用戶具體商定。需根據溶液中的光刻膠含有率,定期更換液體。
2.設備規(guī)格
(1)處理對象:STN、CSTN液晶用玻璃板
(2)處理目的:光刻膠脫膜、干燥
(3)玻璃尺寸:14″×16″,17″,T=0.4、0.55、0.7、1.1mm
(4)籃子規(guī)格:貴公司提供
(5)基板傳送方向:從左到右,或從右到左
(6)設備外形尺寸:約9360×1400×1650mm
(7)干燥重量:約5000Kg
(8)基板傳送高度:從地面至基板下面為900mm
(9)傳送方式:水平枚葉式傳送方式
(10)傳送滾輪間距:基本為80mm
(11)處理時間:標準17秒/塊,標準傳送速度約2.1m/分鐘
(12)啟動準備時間:啟動后約60分鐘
3.外供電源
(1)主機:3相,380V,50Hz,約80kWA
(2)純水用量:約32L/min,0.15Mpa G,電阻值10MΩ/cm以上
(3)冷卻水用量:約0L/min
(4)空氣用量:約2500NL/min,0.4~0.5Mpa G,潔凈干燥氣
顯影設備
1.設備概要
為達到均勻顯影的效果,本設備通過通過SlitSW進行顯影,然后通過Swing SW加強顯影效果,最后使用噴淋和風刀去除液體。須根據液體中的光刻膠含有率情況,定期更換液體。
2.設備規(guī)格
(1)處理對象:STN液晶用玻璃板
(2)處理目的:光刻膠顯影、干燥
(3)對象尺寸等:14″×16″,17″,T=0.4、0.55、0.7、1.1mm
(4)籃子規(guī)格:貴公司提供
(5)基板傳送方向:從左到右,或從右到左
(6)設備外形尺寸:約7270×1400×1650mm
(7)干燥重量:約4200Kg
(8)基板傳送高度:從地面至基板下面為900mm
(9)傳送方式:水平枚葉式傳送方式
(10)傳送滾輪間距:基本為80mm
(11)處理時間:標準17秒/塊,標準傳送速度約2.1m/分鐘
(12)啟動準備時間:啟動后約60分鐘
3.外供電源
(1)主機:3相,380V,50Hz,約30kWA
(2)合計:約30kVA
(3)純水用量:約32L/min,0.15Mpa G,電阻值10MΩ/cm以上
(4)冷卻水用量:約0L/min
(5)空氣用量:約2100NL/min,0.4~0.5Mpa G,潔凈干燥氣
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